Gigaphoton是一家成立于2000年的相对年轻的公司，整合了Komatsu培育的激光技术的多年经验和成就。Komatsu在1996年创立了准分子激光器部门，并于1997年在日本枥木县大山市建立了准分子激光器工厂。它销售了一种大规模生产的1kHz KrF准分子激光器模型，KLES-G10K（目前的G10K系列）在1997年，并在1998年推出了2 kHz KrF准分子激光器G20K系列。小松稳步提高其在日本和亚洲地区的市场份额。2001年，Gigaphoton推出了世界上第一个大规模生产的ArF准分子激光器，能够以4 KHz的高重复频率进行激光发射。从那时起，Gigaphoton一直在营销用于高性能光刻工具的准分子激光光源的最先进的ArF模型，并且已经为满足对于千兆级半导体的超精细电路图案的要求的光刻技术的发展做出了巨大贡献设备。在2004年年底，Gigaphoton推出了新的ArF准分子激光器模型，GT40A，其特点是注入锁定谐振器，可以满足浸没ArF光刻过程的要求。 2005年，Gigaphoton推出了GT60A，重复频率为6000Hz，是前者GT40A的1.5倍;在2006年，GT61A的光谱带宽和运行成本大大提高;在2007年，GT62A的输出功率为90瓦，专门用于浸没式双图案化光刻工艺。